校正工件台倾斜误差的方法及光刻装置
授权
摘要

本发明提供了一种校正工件台倾斜误差的方法及光刻装置,校正方法包括,将工件台沿同一方向移动若干次,使得校正标记在基底上产生若干个曝光场的曝光图像;对于每一个曝光场,根据曝光图像的特征和聚焦参数,得到在每个曝光位置的子倾斜误差;根据子倾斜误差和曝光位置,得到倾斜误差与工件台在移动方向的位置之间的对应关系式;并据此校正工件台。本发明提供的一种校正工件台倾斜误差的方法,能够方便地得出工件台运动过程中的倾斜偏差,提高了工件台定位的准确性。而且能够在曝光位没有调焦调平传感器时使用,且通过对准测量得到标记的垂向位置比调焦调平传感器测量垂向位置的重复性更好,校准精度更高,提高光刻机系统的精度。

基本信息
专利标题 :
校正工件台倾斜误差的方法及光刻装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN113741148A
申请号 :
CN202010478112.3
公开(公告)日 :
2021-12-03
申请日 :
2020-05-29
授权号 :
CN113741148B
授权日 :
2022-06-03
发明人 :
杨泽雷
申请人 :
上海微电子装备(集团)股份有限公司
申请人地址 :
上海市浦东新区张东路1525号
代理机构 :
上海思捷知识产权代理有限公司
代理人 :
王宏婧
优先权 :
CN202010478112.3
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-06-03 :
授权
2021-12-21 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20200529
2021-12-03 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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