阵列基板及其制作方法、显示面板
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摘要

一种阵列基板及其制作方法、显示面板,所述阵列基板包括:基板、像素电极和平坦化层;所述平坦化层设置在所述基板一侧;所述像素电极设置在所述基板背离所述平坦化层的一侧,所述像素电极分为正像素电极和负像素电极,所述正像素电极与所述负像素电极交替设置;所述正像素电极下方的平坦化层为第一平坦化层,所述负像素电极下方的平坦化层为第二平坦化层,所述第一平坦化层的厚度与所述第二平坦化层的厚度相异,即所述正像素电极和所述负像素电极不处于同一水平面上,在通电时,所述正像素电极和所述负像素电极上方的液晶也会受到电场的作用,发生一定角度的偏转,进而提高了所述阵列基板的开口率。

基本信息
专利标题 :
阵列基板及其制作方法、显示面板
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112068373A
申请号 :
CN202010947273.2
公开(公告)日 :
2020-12-11
申请日 :
2020-09-10
授权号 :
CN112068373B
授权日 :
2022-05-03
发明人 :
任维
申请人 :
深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市光明新区公明街道塘明大道9-2号
代理机构 :
深圳紫藤知识产权代理有限公司
代理人 :
张晓薇
优先权 :
CN202010947273.2
主分类号 :
G02F1/1362
IPC分类号 :
G02F1/1362  G02F1/1343  G02F1/1333  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如,转换、选通或调制;非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的,例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备;液晶单元的工作;电路装置
G02F1/136
结构上与一半导体层或基片相结合的液晶单元,例如形成集成电路部分的液晶单元
G02F1/1362
有源矩阵寻址单元
法律状态
2022-05-03 :
授权
2020-12-29 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02F 1/1362
申请日 : 20200910
2020-12-11 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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