阵列基板、显示面板及阵列基板的制作方法
实质审查的生效
摘要
本申请实施例公开了一种阵列基板、显示面板及阵列基板的制作方法。阵列基板包括衬底基板和薄膜晶体管层，薄膜晶体管层设置在衬底基板上；薄膜晶体管层包括第一薄膜晶体管，第一薄膜晶体管包括层叠设置在衬底基板上的第一有源层、第一栅极绝缘层和第一源漏极层，第一栅极绝缘层位于第一有源层和第一源漏极层之间，第一源漏极层包括与第一有源层电连接的第一源极和第一漏极；第一薄膜晶体管还包括第一栅极，第一栅极位于第一栅极绝缘层上，第一栅极与第一源漏极层同层设置。通过将第一栅极与第一源漏极层同层设置，使得第一栅极、第一源极和第一漏极能够采用同一道光罩制成，简化阵列基板的制程工序，提高阵列基板的生产效率，降低生产成本。
基本信息
专利标题 ：
阵列基板、显示面板及阵列基板的制作方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114361182A
申请号 ：
CN202111554193.1
公开（公告）日 ：
2022-04-15
申请日 ：
2021-12-17
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
戴晨
申请人 ：
深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
申请人地址 ：
广东省深圳市光明新区公明街道塘明大道9-2号
代理机构 ：
深圳紫藤知识产权代理有限公司
代理人 ：
杨艇要
优先权 ：
CN202111554193.1
主分类号 ：
H01L27/12
IPC分类号 ：
H01L27/12 H01L21/77
法律状态
2022-05-03 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 27/12
申请日 : 20211217
申请日 : 20211217
2022-04-15 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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