可饱和吸收器件及其制备方法
公开
摘要

一种可饱和吸收器件及其制备方法,该器件由色散可调的保偏微结构光纤以及附着在该保偏微结构光纤的空气孔内壁上的纳米材料构成。本发明得到的可饱和吸收光纤器件全光纤结构、保偏、色散可调的特点。

基本信息
专利标题 :
可饱和吸收器件及其制备方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114268012A
申请号 :
CN202010971665.2
公开(公告)日 :
2022-04-01
申请日 :
2020-09-16
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
廖梅松张仁栗陈亮李夏胡丽丽关佩雯毕婉君王天行
申请人 :
中国科学院上海光学精密机械研究所
申请人地址 :
上海市嘉定区清河路390号
代理机构 :
上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
张宁展
优先权 :
CN202010971665.2
主分类号 :
H01S3/098
IPC分类号 :
H01S3/098  H01S3/067  
法律状态
2022-04-01 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
  • 联系电话
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 联系 Q Q
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 关注微信
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 收藏
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332