一种层状SiOx材料及其制备方法和应用
授权
摘要
本发明公开了一种层状SiOx材料，是呈手风琴形状的层状微米级颗粒，所述SiOx材料的粒径尺寸为0.5～20μm，任意相邻层间均存在纳米级宽度的狭缝空隙，所述狭缝空隙的宽度为1～50nm，单个片层厚度为30～40nm；制备方法为：溶解CaSi2中的Ca得到层状硅氧烯材料；高温煅烧脱去硅氧烯表面的氢键、羟基等，得到SiOx材料。本发明制备工艺简单，流程少，对设备要求不高，易于产业化大量生产，并且得到的2D层状SiOx材料不需包覆可以直接用作锂离子电池负极材料，表现了优异的电化学性能。
基本信息
专利标题 ：
一种层状SiOx材料及其制备方法和应用
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN112194138A
申请号 ：
CN202011060563.1
公开（公告）日 ：
2021-01-08
申请日 ：
2020-09-30
授权号 ：
CN112194138B
授权日 ：
2022-05-20
发明人 ：
杜春雨任阳尹旭才霍华尹鸽平左朋建程新群马玉林高云智
申请人 ：
哈尔滨工业大学
申请人地址 ：
黑龙江省哈尔滨市南岗区西大直街92号
代理机构 ：
北京慕达星云知识产权代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
王攀
优先权 ：
CN202011060563.1
主分类号 ：
C01B33/113
IPC分类号 ：
C01B33/113 H01M4/48 H01M10/0525
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C01
无机化学
C01B
非金属元素；其化合物
C01B33/00
硅; 其化合物
C01B33/113
氧化硅；其水合物
法律状态
2022-05-20 ：
授权
2021-01-26 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C01B 33/113
申请日 : 20200930
申请日 : 20200930
2021-01-08 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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