一种制备含有氧空位的金属氧化物的方法
实质审查的生效
摘要
本发明涉及一种制备含有氧空位的金属氧化物的方法，该方法包括：采用氨水调节金属盐溶液的pH=7～9，再经冷冻干燥，得到含有羟基的金属氧化物；将含有羟基的金属氧化物置于保护气氛中，在300～700℃下热处理，得到所述含有氧空位的金属氧化物。
基本信息
专利标题 ：
一种制备含有氧空位的金属氧化物的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114314520A
申请号 ：
CN202011063716.8
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2020-09-30
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
沈梦张玲霞施剑林
申请人 ：
中国科学院上海硅酸盐研究所
申请人地址 ：
上海市长宁区定西路1295号
代理机构 ：
上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
曹芳玲
优先权 ：
CN202011063716.8
主分类号 ：
C01B13/14
IPC分类号 ：
C01B13/14 B01J21/06 B01J23/06 B01J23/10 C01B32/40
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C01
无机化学
C01B
非金属元素；其化合物
C01B13/00
氧；臭氧；一般氧化物或氢氧化物
C01B13/14
制备一般氧化物或氢氧化物的方法
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : C01B 13/14
申请日 : 20200930
申请日 : 20200930
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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