一种适用于晶体生长过程的行波磁场控制方法
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摘要

本发明公开了一种适用于晶体生长过程的行波磁场控制方法,该方法是在导电熔体的外围施加一个由正弦交变电源产生的行波磁场,该行波磁场的发生装置由多组线圈构成,线圈的结构参数及电流参数均可便利调节。所述行波磁场在导电熔体内产生的感应电流和磁场相互作用产生洛伦兹力,对某一种导电熔体而言,行波磁场参数的改变会影响到洛伦兹力的大小、方向和及其在熔体中的分布。本发明通过改变不同长晶阶段的行波磁场参数来控制熔体流动、温度分布、结晶界面形状、杂质分布等晶体生长参数,以提高晶体品质,例如在晶体生长过程中调制行波磁场参数使得结晶界面形状一直保持平直或微凸、杂质在轴向和径向分布均匀等。

基本信息
专利标题 :
一种适用于晶体生长过程的行波磁场控制方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112195519A
申请号 :
CN202011080122.8
公开(公告)日 :
2021-01-08
申请日 :
2020-10-10
授权号 :
CN112195519B
授权日 :
2022-04-22
发明人 :
李早阳刘文超邵玥刘立军孙聂枫
申请人 :
西安交通大学
申请人地址 :
陕西省西安市咸宁西路28号
代理机构 :
西安通大专利代理有限责任公司
代理人 :
闵岳峰
优先权 :
CN202011080122.8
主分类号 :
C30B30/04
IPC分类号 :
C30B30/04  C30B29/06  
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C30
晶体生长
C30B
单晶生长;共晶材料的定向凝固或共析材料的定向分层;材料的区熔精炼;具有一定结构的均匀多晶材料的制备;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料;单晶或具有一定结构的均匀多晶材料之后处理;其所用的装置
C30B30/00
利用电场、磁场、波能或其他特定物理条件的作用为特征来制备单晶或具有一定结构的均匀多晶材料
C30B30/04
用磁场的
法律状态
2022-04-22 :
授权
2021-01-26 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : C30B 30/04
申请日 : 20201010
2021-01-08 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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