耦合结构
公开
摘要

本申请提供一种耦合结构,包括:基板,包括底面和与所述底面相对设置的第一台阶面,所述第一台阶面包括第一顶面、第二顶面和连接所述第一顶面和所述第二顶面的第一连接面,所述第一顶面高于所述第二顶面,所述第一顶面开设有延伸至所述第一连接面的凹槽;硅光芯片,设置在所述第二顶面的上方并与所述第二顶面固定连接,所述硅光芯片的一端具有耦合接口,所述一端与所述第一连接面抵接,所述耦合接口与所述凹槽连通;光纤,至少部分位于所述凹槽内,所述光纤的一端贴合于所述耦合接口。本申请实施例提供的耦合结构,有效降低了光纤和硅光芯片的耦合难度,实现了硅光芯片与光纤的快速耦合对准。

基本信息
专利标题 :
耦合结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114488421A
申请号 :
CN202011158253.3
公开(公告)日 :
2022-05-13
申请日 :
2020-10-26
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
杜巍许胜兰宋琼辉胡强高
申请人 :
武汉光迅科技股份有限公司
申请人地址 :
湖北省武汉市洪山区邮科院路88号
代理机构 :
北京派特恩知识产权代理有限公司
代理人 :
张李静
优先权 :
CN202011158253.3
主分类号 :
G02B6/42
IPC分类号 :
G02B6/42  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B6/00
光导;包含光导和其他光学元件的装置的结构零部件
G02B6/24
光波导的耦合
G02B6/42
光波导与光电元件的耦合
法律状态
2022-05-13 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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