本发明提供一种机台清洁装置，涉及半导体设备技术领域，用于解决待加工件的良品率低的技术问题。该机台清洁装置用于对机台主体的顶面进行清洁，包括：设置在机台主体的载台旁的导轨，滑动安装在导轨上的支架，安装在机台清洁装置支架上的清洁部件，与机台清洁装置支架传动连接的驱动装置，以及与机台清洁装置驱动装置连接的控制器；当清洁部件对机台主体的顶面清洁时，控制器控制驱动装置驱动支架沿导轨移动，以带动清洁部件向远离载台的方向清洁机台主体的顶面，清洁时减少异物颗粒掉落污染载台，并通过将异物颗粒从机台主体的顶面清洁掉，从而减少堆积在机台主体的顶面的异物颗粒掉落污染载台，提高待加工件的良品率。