一种基于WGM晶体腔的光机械磁力计
实质审查的生效
摘要

本发明公开了一种种基于WGM晶体腔的光机械磁力计,包括包括激光器、光隔离器、光衰减器、相位调制器、交流电压源、三维等径线圈、耦合装置、衰减器、FPGA电路板、上位机、示波器、频谱仪,本发明采用了结构缺陷少、高光学品质因子的WGM晶体腔和超磁致伸缩材料(Terfenol‑D),增强了磁致伸缩材料与WGM晶体腔的光机械的耦合强度,增加了由磁场引起的光共振频率偏移,可实现超带宽磁场探测,具有抗干扰性强,稳定性好,灵敏度高的优点。

基本信息
专利标题 :
一种基于WGM晶体腔的光机械磁力计
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114442008A
申请号 :
CN202011242793.X
公开(公告)日 :
2022-05-06
申请日 :
2020-11-02
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
戎佳敏李江龙邢恩博邢国徽刘文耀唐军刘俊
申请人 :
中北大学
申请人地址 :
山西省太原市尖草坪区学院路3号
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN202011242793.X
主分类号 :
G01R33/032
IPC分类号 :
G01R33/032  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01R
测量电变量;测量磁变量
G01R33/00
测量磁变量的装置或仪器
G01R33/02
测量磁场或磁通量的方向或大小
G01R33/032
采用磁—光设备,例如法拉第的
法律状态
2022-05-24 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01R 33/032
申请日 : 20201102
2022-05-06 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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