晶体定向方法、装置及晶体加工方法

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摘要

本发明公开了一种晶体定向方法及装置，属于晶体定向技术领域。所述装置包括X射线衍射仪和搭载于X射线衍射仪的基台，基台上设置有待测晶体搭载区、水平翻转机构、轴向旋转机构和竖直升降机构。定向方法包括：放置待测晶体于基台上；全谱范围内对待测晶体进行衍射；小角度调节水平翻转机构和轴向旋转机构，记录X射线衍射仪对待测晶体不同晶面的衍射强度；预判目标晶面所需的基台调整角度和旋转方向，调节并微调做衍射，直至衍射谱中只保留目标晶面的衍射峰。本发明比劳埃衍射仪法和定向仪法更加便捷；能够精确获取所需晶面；成本低，无需其他辅助设备。本发明还公开了根据上述晶体定向方法的晶体加工方法。

基本信息

专利标题：

晶体定向方法、装置及晶体加工方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN113433146A

申请号：

CN202110838522.9

公开（公告）日：

2021-09-24

申请日：

2021-07-23

授权号：

CN113433146B

授权日：

2022-05-27

发明人：

冯江河刘睿恒邱国娟

申请人：

深圳先进电子材料国际创新研究院

申请人地址：

广东省深圳市宝安区福永街道龙王庙工业区

代理机构：

北京市诚辉律师事务所

代理人：

范盈

优先权：

CN202110838522.9

主分类号：

G01N23/20016

IPC分类号：

G01N23/20016 G01N23/20025