一种高厚度高强度光固化氮化硅陶瓷及其制备方法
公开
摘要
本发明公开了一种高厚度高强度光固化氮化硅陶瓷及其制备方法，制备过程中采用向陶瓷膏料中低温造孔剂PEG，使得在后期的脱脂过程，氮化硅陶瓷的最大脱脂厚度提高至8mm，且脱脂时间仅需60h，脱脂率可达99％以上。本发明通过将PEG在200‑300℃挥发并且留下球形孔洞的特点，首先在氩气气氛下进行高分子的裂解及低温造孔剂的脱除，其中后者可在300℃几乎全部脱除，为后续小分子的逸出提供通道。该过程在陶瓷生坯脱脂过程中预先在坯体中留下通道，利于后续光敏树脂的高温脱出(避免开裂变形，提高极限脱脂厚度)。
基本信息
专利标题 ：
一种高厚度高强度光固化氮化硅陶瓷及其制备方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114478049A
申请号 ：
CN202011272964.3
公开（公告）日 ：
2022-05-13
申请日 ：
2020-11-13
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
潘欢卢秉恒鲍崇高刘荣臻
申请人 ：
西安增材制造国家研究院有限公司
申请人地址 ：
陕西省西安市高新区上林苑八路997号
代理机构 ：
西安通大专利代理有限责任公司
代理人 ：
安彦彦
优先权 ：
CN202011272964.3
主分类号 ：
C04B38/06
IPC分类号 ：
C04B38/06 C04B35/584 C04B35/622 B33Y70/10 B33Y80/00
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C04
水泥；混凝土；人造石；陶瓷；耐火材料
C04B
石灰；氧化镁；矿渣；水泥；其组合物，例如：砂浆、混凝土或类似的建筑材料；人造石；陶瓷；耐火材料；天然石的处理
C04B38/00
多孔的砂浆、混凝土、人造石或陶瓷制品；其制造方法
C04B38/06
烧除加入的物质
法律状态
2022-05-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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