复铁膜及其制备方法、采用该复铁膜的复膜铁
公开
摘要
本发明公开了一种复铁膜及其制备方法、采用该复铁膜的复膜铁,其中复铁膜包括依次层叠的印刷层、第一处理层、基膜层、第二处理层、信息层、镀膜层,所述信息层具有视觉防伪信息和光学定位标记,所述光学定位标记供所述印刷层与所述信息层对位。基膜层为复铁膜提供载体,信息层的视觉防伪信息能够提高复铁膜的防伪能力,同时,由于信息层具有光学定位标记,因此可以利用光学定位标记实现印刷层与信息层的精准定位,从而使得复铁膜能够具有精美的图案。镀膜层能够提升信息层的光学效果以及定位标记的亮度,以利于对光学定位标记的定位。第一处理层和第二处理层能够增加信息层和印刷层的牢度。
基本信息
专利标题 :
复铁膜及其制备方法、采用该复铁膜的复膜铁
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114621478A
申请号 :
CN202011448424.6
公开(公告)日 :
2022-06-14
申请日 :
2020-12-09
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
游仁顺庄孝磊刘相乾张志伟豆敬涛祁艳群
申请人 :
上海天臣微纳米科技股份有限公司;上海天臣包装材料有限公司
申请人地址 :
上海市松江区莘砖公路518号3幢201室
代理机构 :
上海弼兴律师事务所
代理人 :
杨东明
优先权 :
CN202011448424.6
主分类号 :
C08J7/04
IPC分类号 :
C08J7/04 C08J7/043 C08J7/06 C08L67/02 C08L69/00 C08L33/12 C08L23/12 C08L23/06 C08L79/08 C08L77/00 B32B15/085 B32B15/09 B32B27/32 B32B27/36 B32B33/00 B65D65/40 B41M1/30 B41M1/10 B41M1/12 B41M3/14 B05D7/04 B05D1/38 B05D7/24
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C08
有机高分子化合物;其制备或化学加工;以其为基料的组合物
C08J
加工;配料的一般工艺过程;不包括在C08B,C08C,C08F,C08G或C08H小类中的后处理
C08J7/00
高分子物质成形制品的化学处理或涂层
C08J7/04
涂层
法律状态
2022-06-14 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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