一种基于迭代离散小波背景扣除的痕量元素XRF测定方法
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摘要

本发明公开了一种基于迭代离散小波背景扣除的痕量元素XRF测定方法,将待测样品的原始检测谱线信号做L层一维离散小波分解,得到每层的一次低频逼近系数,选择最优分解层及对应的一次低频逼近系数av;然后对一次低频逼近系数av进行迭代离散小波分解,当连续N次相邻两次迭代结果的差值均小于预设精度时,停止迭代,并将最近一次迭代结果作为近似背景信号,进而得到扣除背景后信号;分别计算康普顿峰散射强度和目标元素的特征X射线荧光强度,近似处理后,得到目标元素的定量分析值。本发明所述方法可有效避免峰值的偏移和原谱图信号峰面积的影响,提升痕量元素的定量检测精度,将检测信噪比提升三倍以上,降低痕量元素的检出限。

基本信息
专利标题 :
一种基于迭代离散小波背景扣除的痕量元素XRF测定方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN112748140A
申请号 :
CN202011534473.1
公开(公告)日 :
2021-05-04
申请日 :
2020-12-23
授权号 :
CN112748140B
授权日 :
2022-05-03
发明人 :
李福生马骞程惠珠赵彦春杨婉琪何星华
申请人 :
电子科技大学
申请人地址 :
四川省成都市高新区(西区)西源大道2006号
代理机构 :
电子科技大学专利中心
代理人 :
吴姗霖
优先权 :
CN202011534473.1
主分类号 :
G01N23/223
IPC分类号 :
G01N23/223  G06K9/00  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量;测试
G01N
借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料
G01N23/00
利用波或粒子辐射来测试或分析材料,例如未包括在G01N3/00-G01N17/00、G01N 21/00 或G01N 22/00中的X射线或中子
G01N23/22
通过测量材料的二次发射
G01N23/223
通过用X射线或γ射线辐照样品以及测量X射线荧光
法律状态
2022-05-03 :
授权
2021-05-21 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01N 23/223
申请日 : 20201223
2021-05-04 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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