电子阻挡层、发光器件及其制备方法和显示装置
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摘要
本发明涉及一种电子阻挡层，其包括：依次层叠设置于多量子发光层上的第一阻挡层、第二阻挡层以及第三阻挡层，其中，所述第一阻挡层的材料为氮化铟铝，所述第二阻挡层的材料为氮化铝镓；所述第三阻挡层包括至少一层第一掺杂层和至少一层第二掺杂层，所述至少一层第一掺杂层和所述至少一层第二掺杂层交替层叠设置，所述第三阻挡层设置于所述第二阻挡层上，所述第二掺杂层设置于所述第一掺杂层上。从而实现增加导带中电子的有效势垒高度和降低价带中空穴的有效势垒高度，并有效的减小大电流注入情况下的效率衰减问题和漏电问题。本发明还提供了一种发光器件、一种发光器件的制备方法和一种具有该发光器件的显示装置。
基本信息
专利标题 ：
电子阻挡层、发光器件及其制备方法和显示装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN113451470A
申请号 ：
CN202011634252.1
公开（公告）日 ：
2021-09-28
申请日 ：
2020-12-31
授权号 ：
CN113451470B
授权日 ：
2022-05-31
发明人 ：
翟小林杨顺贵张青洲张海林黎力
申请人 ：
重庆康佳光电技术研究院有限公司
申请人地址 ：
重庆市璧山区璧泉街道钨山路69号（1号厂房）
代理机构 ：
广州三环专利商标代理有限公司
代理人 ：
熊永强
优先权 ：
CN202011634252.1
主分类号 ：
H01L33/14
IPC分类号 ：
H01L33/14 H01L33/00
法律状态
2022-05-31 ：
授权
2021-10-22 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : H01L 33/14
申请日 : 20201231
申请日 : 20201231
2021-09-28 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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