一种用于表面沾污仪标定的调节支架
授权
摘要
本实用新型公开一种表面沾污仪标定用的调节支架，其包括支撑表面沾污仪的主体支撑件，其还包括连接在所述主体支撑件上的面源调整件，所述面源调整件包括面源支撑板、齿轮齿条机构以及驱动控制单元，所述面源支撑板连接在所述齿轮齿条机构上，所述驱动控制单元驱动并控制所述齿轮齿条机构带动所述面源支撑板竖向移动，以靠近或远离所述表面沾污仪。本实用新型的调节支架使得表面沾污仪距离控制精准，读数稳定，标定效果更精确。
基本信息
专利标题 ：
一种用于表面沾污仪标定的调节支架
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020123989.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-01-19
授权号 ：
CN213091897U
授权日 ：
2021-04-30
发明人 ：
陆地陈燕平毕可华周鹏飞孙晓飞邱旭付玉
申请人 ：
北京树诚科技发展有限公司
申请人地址 ：
北京市顺义区林河南大街31号1幢
代理机构 ：
北京律诚同业知识产权代理有限公司
代理人 ：
张燕华
优先权 ：
CN202020123989.6
主分类号 ：
G01T7/00
IPC分类号 ：
G01T7/00 G01T1/167
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01T
核辐射或X射线辐射的测量
G01T7/00
辐射计量仪器的附件
法律状态
2021-04-30 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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