表面沾污物的清除方法和设备
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
摘要
一种从衬底表面清除表面沾污物的设备和方法，其在衬底表面（１２）上方提供一个惰性气体（１８）的片流，同时对衬底进行辐照。本发明使得能够清除表面沾污物而不改变下方衬底的分子晶体结构。高能辐射源包括脉冲或连续波激光器或者高能灯。
基本信息
专利标题 ：
表面沾污物的清除方法和设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1125917A
申请号 ：
CN94192170.0
公开（公告）日 ：
1996-07-03
申请日 ：
1994-04-11
授权号 ：
CN1066644C
授权日 ：
2001-06-06
发明人 ：
Ａ·Ｃ·恩格斯堡
申请人 ：
大锅有限合伙人公司
申请人地址 ：
美国马利兰州
代理机构 ：
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 ：
程天正
优先权 ：
CN94192170.0
主分类号 ：
B08B7/00
IPC分类号 ：
B08B7/00 B23K26/14 H01L21/268
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B08
清洁
B08B
一般清洁；一般污垢的防除
B08B7/00
不包含在其他小类或本小类的其他组中的清洁方法
法律状态
2009-06-10 ：
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
2001-06-06 ：
授权
1996-07-10 ：
实质审查请求的生效
1996-07-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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