一种防止曝光不足的过孔结构及电路产品
授权
摘要
本实用新型公开了一种防止曝光不足的过孔结构，包括下层透明电极、设于所述下层透明电极上的第一透明绝缘层和设于所述第一透明绝缘层上的上层电极，所述第一透明绝缘层开设有至少一过孔，所述上层电极从所述第一透明绝缘层的过孔处与所述下层透明电极搭接导通；所述下层透明电极对应于所述过孔处的下方设有光反射层。该过孔结构可防止曝光时出现曝光不足的情况，提高产品良率。本实用新型还公开了一种电路产品。
基本信息
专利标题 ：
一种防止曝光不足的过孔结构及电路产品
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020213377.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-02-26
授权号 ：
CN211376634U
授权日 ：
2020-08-28
发明人 ：
柳发霖张东琪张泽鹏马亮
申请人 ：
信利（仁寿）高端显示科技有限公司
申请人地址 ：
四川省眉山市仁寿县文林工业园区管委会办公楼一楼
代理机构 ：
广州粤高专利商标代理有限公司
代理人 ：
李健威
优先权 ：
CN202020213377.6
主分类号 ：
H01L23/498
IPC分类号 ：
H01L23/498
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L23/00
半导体或其他固态器件的零部件
H01L23/48
用于向或自处于工作中的固态物体通电的装置，例如引线或接线端装置
H01L23/488
由焊接或黏结结构组成
H01L23/498
引线位于绝缘衬底上的
法律状态
2020-08-28 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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