实现外延材料深亚波长光子模式体积的平面漏斗微腔
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摘要
本专利公开了一种实现外延材料深亚波长光子模式体积的平面漏斗微腔，其结构包括金属反射薄膜层、外延材料层、平面漏斗形天线层。在平面光入射下，两层金属表面的等离激元模式耦合在一起，形成等离激元波导模式，在上、下金属之间的外延材料层中传播，基于微腔共振模式以及金属尖端效应获得尖端之下的外延材料中形成深亚波长尺度的局域强光场。利用外延材料的去衬底技术能够实现外延材料与该平面漏斗形等离激元微腔的完美集成，通过刻蚀形成物理反射界面，使体系逼近临界耦合状态，能够大幅局域光子模式耦合效率。该微腔结构有助于实现深亚波长尺度的局域光子模式及局域强光场。
基本信息
专利标题 ：
实现外延材料深亚波长光子模式体积的平面漏斗微腔
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020223008.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-02-28
授权号 ：
CN211979245U
授权日 ：
2020-11-20
发明人 ：
周靖兰梦珂储泽世代旭余宇郭尚坤邓杰陈效双蔡清元李方哲嵇兆煜布勇浩
申请人 ：
中国科学院上海技术物理研究所
申请人地址 ：
上海市虹口区玉田路500号
代理机构 ：
上海沪慧律师事务所
代理人 ：
郭英
优先权 ：
CN202020223008.5
主分类号 ：
G02B5/00
IPC分类号 ：
G02B5/00 G02B6/12 G02B6/136
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B5/00
除透镜外的光学元件
法律状态
2020-11-20 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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