镀膜用容器
授权
摘要
本申请公开了一种镀膜用容器，涉及镀膜用具的技术领域。本申请的镀膜用容器包括坩埚和衬锅，坩埚具有坩埚底盘和设于坩埚底盘的坩埚边框，坩埚边框围成坩埚容置空间；衬锅具有衬锅底盘和设于衬锅底盘的衬锅边框，衬锅设于坩埚容置空间中；其中，在装配状态下，坩埚底盘与衬锅底盘贴合，坩埚边框与衬锅边框之间留有间隙。本申请通过坩埚边框与衬锅边框之间设置间隙，从而减小产生的电极黑点数，甚至不会产生电极黑点，增强了保温效果，减小了所需功率，延长了衬锅的使用寿命。
基本信息
专利标题 ：
镀膜用容器
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020327878.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-03-16
授权号 ：
CN211872076U
授权日 ：
2020-11-06
发明人 ：
苏朋杨国文宋院鑫张松涛赵卫东
申请人 ：
度亘激光技术(苏州)有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市工业园区苏州金鸡湖大道99号西北区20幢215、217室
代理机构 ：
北京超凡宏宇专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 ：
付兴奇
优先权 ：
CN202020327878.7
主分类号 ：
C23C14/24
IPC分类号 ：
C23C14/24 C23C14/30
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2020-11-06 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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