一种用于电容器金属膜蒸镀的镀膜装置
授权
摘要
本实用新型公开了一种用于电容器金属膜蒸镀的镀膜装置，包括真空室、转动设置与真空室内的水冷辊、转动设置于真空室内且分别位于水冷辊左右两侧的放辊和卷辊、位于水冷辊与放辊之间的若干左导辊、位于水冷辊与卷辊之间的右导辊，所述水冷辊、放辊、卷辊、左导辊、右导辊上对称设置有用于对聚酯膜两侧进行限位的两个限位环。其技术方案要点是聚酯膜在往前输送过程中，水冷辊、放辊、卷辊、左导辊、右导辊上的两个限位环对聚酯膜两侧进行限位，进而在一定程度上避免聚酯膜出现横向偏移的情况，提升产品的加工质量。
基本信息
专利标题 ：
一种用于电容器金属膜蒸镀的镀膜装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN201921640703.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2019-09-29
授权号 ：
CN210736874U
授权日 ：
2020-06-12
发明人 ：
古玮韩秋城杨峰
申请人 ：
浙江七星电子股份有限公司
申请人地址 ：
浙江省湖州市长兴县煤山镇发展大道50号
代理机构 ：
重庆中之信知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
陈利荣
优先权 ：
CN201921640703.5
主分类号 ：
C23C14/20
IPC分类号 ：
C23C14/20 C23C14/24 C23C14/56 C23C14/52
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/06
以镀层材料为特征的
C23C14/14
金属材料、硼或硅
C23C14/20
在有机物基体上
法律状态
2020-06-12 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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