一种大小件双工位新型双室离子束抛光设备
授权
摘要
本实用新型涉及真空环境离子束修形加工技术领域，具体地说，涉及一种大小件双工位新型双室离子束抛光设备，包括主真空室和设置于主真空室一侧的副真空室，主真空室内设置有离子源，副真空室与主真空室之间设置有插板阀，副真空室的一侧外壁设置有副真空室仓门，主真空室的一侧外壁设置有主真空室仓门。本实用新型的设计采用较小的副真空室和插板阀，小工件的加工工位设置于副真空室内，当需要加工大工件时，大工件直接从主真空室的仓门进行装卸，而不通过副真空室，此种方式可以将主真空室做得足够大以便加工很大尺寸的工件，同时副真空室又足够小，仍然可以在短时间抽到真空，从而保持了加工小尺寸工件的操作效率。
基本信息
专利标题 ：
一种大小件双工位新型双室离子束抛光设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020687288.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-04-29
授权号 ：
CN212161751U
授权日 ：
2020-12-15
发明人 ：
陈永富丁杰陶尚
申请人 ：
长沙埃福思科技有限公司
申请人地址 ：
湖南省长沙市开福区青竹湖街道青竹湖路118号金卓产业园7号小型仪表装配厂房101一楼
代理机构 ：
代理人 ：
优先权 ：
CN202020687288.5
主分类号 ：
H01J37/20
IPC分类号 ：
H01J37/20 H01J37/16 H01J37/305
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01J
放电管或放电灯
H01J37/00
有把物质或材料引入使受到放电作用的结构的电子管，例如为了对其检验或加工的
H01J37/02
零部件
H01J37/20
物体或材料的支承或定位装置；与支架相联的光阑或透镜的调整装置
法律状态
2020-12-15 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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