一种高效率低损伤缺陷表面离子束抛光设备和抛光方法
实质审查的生效
摘要

本发明属于离子束加工技术领域,具体涉及一种高效率低损伤缺陷表面的离子束抛光设备和方法。设备包括离子束抛光设备腔室、离子源系统,工件安装在离子束抛光设备腔室;离子源系统与射频电源、偏压电源和引出电源连接;方法选用熔石英作为工件固定后,工件被加工面法向与离子束入射方向平行,封闭设备腔室并抽真空,通入工作气体,并将其激发电离,产生高密度等离子体,同时启动偏压电源和引出电压,利用交替引出的正、负离子构成的多组分离子束轰击工件表面。利用线性射频离子源,通过多维运动工件架使工件相对于离子源做扫描运动,实现大尺寸元件均匀一致抛光,提高离子束抛光控制精度,提升加工速率。

基本信息
专利标题 :
一种高效率低损伤缺陷表面离子束抛光设备和抛光方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114346767A
申请号 :
CN202111496449.8
公开(公告)日 :
2022-04-15
申请日 :
2021-12-09
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
聂军伟陈庆川杨发展郑才国刘克威
申请人 :
核工业西南物理研究院
申请人地址 :
四川省成都市双流西南航空港黄荆路5号
代理机构 :
核工业专利中心
代理人 :
高安娜
优先权 :
CN202111496449.8
主分类号 :
B24B1/00
IPC分类号 :
B24B1/00  H01J37/305  H01J37/08  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B24
磨削;抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺(用电蚀入B23H;磨料或有关喷射入B24C;电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00;磨具磨损表面的修理或调节;磨削,抛光剂或研磨剂的进给
B24B1/00
磨削或抛光的工艺;与此工艺有关的所用辅助设备
法律状态
2022-05-03 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : B24B 1/00
申请日 : 20211209
2022-04-15 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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