一种非球面离子束抛光方法
实质审查的生效
摘要

本发明涉及光学元件加工技术领域,具体涉及一种非球面离子束抛光方法。是在计算驻留时间时在不同的驻留点处使用不同的去除函数去计算。本发明可在线性三轴离子束加工设备上实现非球面修形,三轴加工系统控制相对较简单,成本低。本发明采用的步骤为:1、测算非球面的初始面形偏差;2、进行去除函数获取实验,获取基准去除函数,根据动态去除函数模型计算动态去除函数链表;3、分配驻留点,规划合适的加工路径;4、根据待加工光学元件的面形参数计算竖直方向的入射角和各驻留点处的方位角;5、计算驻留时间矩阵并生成加工文件,导入修形设备进行实际加工。

基本信息
专利标题 :
一种非球面离子束抛光方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114273986A
申请号 :
CN202111526676.0
公开(公告)日 :
2022-04-05
申请日 :
2021-12-14
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
陈智利刘卫国惠迎雪周顺张进陈鹏
申请人 :
西安工业大学
申请人地址 :
陕西省西安市未央区学府中路2号
代理机构 :
西安新思维专利商标事务所有限公司
代理人 :
黄秦芳
优先权 :
CN202111526676.0
主分类号 :
B24B1/00
IPC分类号 :
B24B1/00  B24B13/00  B24B51/00  B24B49/12  G05B19/19  
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B24
磨削;抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺(用电蚀入B23H;磨料或有关喷射入B24C;电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00;磨具磨损表面的修理或调节;磨削,抛光剂或研磨剂的进给
B24B1/00
磨削或抛光的工艺;与此工艺有关的所用辅助设备
法律状态
2022-04-22 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : B24B 1/00
申请日 : 20211214
2022-04-05 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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