研磨盘的清洁装置和研磨设备
授权
摘要
本实用新型提供一种研磨盘的清洁装置和研磨设备，清洁装置用于清洁研磨盘的沟槽，所述清洁装置包括第一收放线驱动器、第二收放线驱动器和清洁线，所述清洁线的两端分别与所述第一收放线驱动器和所述第二收放线驱动器相连，且所述清洁线能够在所述第一收放线驱动器和/或所述第二收放线驱动器的带动下沿所述沟槽移动以清洁所述沟槽。这样，本实用新型实施例中，通过设置清洁线，并利用第一收放线驱动器和第二收放线驱动器带动清洁线，沿沟槽移动从而实现利用清洁线对研磨盘的沟槽进行清洁，降低了划伤研磨盘的可能性，有助于提高清洁研磨盘的便利程度。
基本信息
专利标题 ：
研磨盘的清洁装置和研磨设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202020892125.0
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-05-25
授权号 ：
CN212240562U
授权日 ：
2020-12-29
发明人 ：
郭宇轩
申请人 ：
西安奕斯伟硅片技术有限公司
申请人地址 ：
陕西省西安市高新区锦业路1号都市之门A座1323室
代理机构 ：
北京银龙知识产权代理有限公司
代理人 ：
黄灿
优先权 ：
CN202020892125.0
主分类号 ：
B24B37/34
IPC分类号 ：
B24B37/34 B24B37/11
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B37/00
研磨机床或装置；附件
B24B37/34
附件
法律状态
2020-12-29 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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