一种硅片清洗机用抛动装置
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摘要

一种硅片清洗机用抛动装置,包括底座、电机支架、电机、减速器、偏心轮、动力横杆、上支架、背板、抛动孔、滑杆、限位机构、开关支架、行程开关、抛动臂、垫块,底座上固定安装有电机支架,电机支架上固定安装有电机,电机的输出轴与减速器相连,减速器的输出轴上安装有偏心轮,底座上方设有上支架,上支架通过背板与底座相连接,底座与上支架之间安装有滑杆,滑杆上设有限位机构,动力横杆下侧的背板上固定安装有开关支架,开关支架上设有行程开关,行程开关与PLC控制系统电连接。本实用新型优化了整个硅片清洗机的运行过程,提升了单晶硅片在清洗工序中的安全系数,也更利于机械手提取和放置硅片工装的联动控制,提升了系统的工作效率。

基本信息
专利标题 :
一种硅片清洗机用抛动装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021354609.6
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-07-11
授权号 :
CN212856920U
授权日 :
2021-04-02
发明人 :
薛佳勇王海军薛佳伟
申请人 :
天津众晶半导体材料有限公司
申请人地址 :
天津市北辰区天津北辰经济技术开发区双原道7号
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN202021354609.6
主分类号 :
B08B3/10
IPC分类号 :
B08B3/10  B08B13/00  H01L21/67  
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业;运输
B08
清洁
B08B
一般清洁;一般污垢的防除
B08B3/00
使用液体或蒸气的清洁方法
B08B3/04
与液体接触的清洁
B08B3/10
对液体或被净化物体进行附加处理的,如用加热,电力,振动
法律状态
2021-04-02 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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