硅片清洗机用料框拦截装置
授权
摘要
硅片清洗机用料框拦截装置，涉及硅片清洗技术领域，两个拦截底座安装在硅片清洗机传送带的前端，拦截底座上方设置有拦截杠，两个拦截底座与拦截杠，形成门形，门内侧的高低与宽度确保能通过料框，两个拦截底座内侧上设置有恰好能通过的料框把手的拦截槽。本实用新型的有益效果是：避免了因料框的把手或料框框体变形，机械臂的吊钩无法准确吊起料框把手造成的翻篮事故，保证正常安全生产。
基本信息
专利标题 ：
硅片清洗机用料框拦截装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021423937.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-20
授权号 ：
CN212676227U
授权日 ：
2021-03-09
发明人 ：
张永坦苏大伟曹博卢晓贝王丹丹郭宽新刘郭军
申请人 ：
河南盛达光伏科技有限公司
申请人地址 ：
河南省安阳市滑县文明路与黄河路交叉口西米200米
代理机构 ：
安阳市智浩专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
杨红军
优先权 ：
CN202021423937.7
主分类号 ：
H01L21/673
IPC分类号 ：
H01L21/673
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21/673
使用专用的载体的
法律状态
2021-03-09 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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