一种刻蚀清洗机硅片导向装置
授权
摘要
本实用新型公开一种刻蚀清洗机硅片导向装置，涉及光伏自动化设备领域。该刻蚀清洗机硅片导向装置，支撑架，所述支撑架右壁开设有凹槽，所述支撑架右壁开设的凹槽内壁活动卡接有滚筒。该刻蚀清洗机硅片导向装置，通过设置第一归正圈、第一归正锁紧圈、第二归正锁紧圈、第二归正圈和滚筒的连接关系，使第一归正圈和第一归正锁紧圈内壁设有螺纹，和外壁设有螺纹的滚筒相配合，将第一归正圈和第二归正圈根据硅片的尺寸大小进行调节，再用第一归正锁紧圈和第二归正锁紧圈锁紧，使第一归正圈和第二归正圈的位置得到固定，便于对硅片进行位置导向。
基本信息
专利标题 ：
一种刻蚀清洗机硅片导向装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202220117105.5
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2022-01-17
授权号 ：
CN216528809U
授权日 ：
2022-05-13
发明人 ：
梁建
申请人 ：
釜川（无锡）智能科技有限公司
申请人地址 ：
江苏省无锡市锡山区东港镇蠡漍工业园内
代理机构 ：
青海中赢知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
张艳花
优先权 ：
CN202220117105.5
主分类号 ：
H01L21/677
IPC分类号 ：
H01L21/677 H01L21/67
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21/677
用于传送的，例如在不同的工作站之间
法律状态
2022-05-13 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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