一种硅片烘干装置及硅片刻蚀机

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摘要

本实用新型公开了一种硅片烘干装置及硅片刻蚀机，该硅片烘干装置包括氢氟酸槽、水洗槽、烘干槽和运输机构。氢氟酸槽的上方设有氢氟酸喷头，水洗槽的上方设有水洗喷头，水洗喷头通过连接管与水洗槽相连，烘干槽的上方设有冷风喷头和热风喷头，运输机构用于运输硅片。氢氟酸槽、水洗槽及烘干槽沿硅片的运输方向依次排布，冷风喷头位于热风喷头的上游；运输机构包括多个运输辊，运输辊包括依次与氢氟酸槽、水洗槽及烘干槽对应设置的第一辊组、第二辊组及第三辊组，第三辊组的运输辊的上边缘高于第一辊组及第二辊组的运输辊的上边缘。该烘干装置能够较好地烘干硅片，降低硅片上出现烘干水痕的几率，从而保证硅片的良品率。

基本信息

专利标题：

一种硅片烘干装置及硅片刻蚀机

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN201922006664.X

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2019-11-19

授权号：

CN210516685U

授权日：

2020-05-12

发明人：

杨金鑫谢凤兰唐正海刘燕

申请人：

盐城阿特斯阳光能源科技有限公司;阿特斯阳光电力集团有限公司

申请人地址：

江苏省盐城市盐城经济技术开发区漓江路66号

代理机构：

北京品源专利代理有限公司

代理人：

胡彬

优先权：

CN201922006664.X

主分类号：

H01L21/67

IPC分类号：

H01L21/67 H01L31/18