一种圆形硅片清洗机构
专利申请权、专利权的转移
摘要

本实用新型公开了一种圆形硅片清洗机构,包括架体及设置在架体上的两清洗槽、清洗装置安装架、清洗装置安装架摆动装置、稳定装置、活动安装在清洗装置安装架上的清洗篮;清洗装置安装架摆动装置包括设置在两清洗槽之间的第一横向旋转轴,第一横向旋转轴的左、右两端分别对称固定有等长的转板,两转板分别套装有一第二横向旋转轴;清洗装置安装架的两端分别与两第二横向旋转轴相连;清洗装置安装架的底端的左、右两端各设有垂直于第二横向旋转轴的立板,两立板之间横向安装有清洗篮;清洗装置安装架的顶端横向设有清洗驱动电机,清洗驱动电机与清洗篮的硅片旋转驱动装置相连。本实用新型圆形硅片清洗机构具有清洗高效的特点。

基本信息
专利标题 :
一种圆形硅片清洗机构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202020802905.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-05-15
授权号 :
CN212434580U
授权日 :
2021-01-29
发明人 :
马玉水
申请人 :
马玉水
申请人地址 :
山东省聊城市高唐县经济技术开发区人和西路中段路北(杰盛院内)山东联盛电子设备有限公司
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN202020802905.1
主分类号 :
H01L21/67
IPC分类号 :
H01L21/67  
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2021-03-19 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移IPC(主分类) : H01L 21/67
登记生效日 : 20210308
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 马玉水
变更后权利人 : 山东联盛电子设备有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 252800 山东省聊城市高唐县经济技术开发区人和西路中段路北(杰盛院内)山东联盛电子设备有限公司
变更后权利人 : 252800 山东省聊城市高唐县经济技术开发区人和西路中段路北
2021-01-29 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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