一种硅片抛光治具
授权
摘要
本实用新型提供一种硅片抛光治具，其特征在于，包括：基座，其具有一支撑面；调节单元，其可沿所述基座的径向定向滑动式的设置于所述基座上，所述调节单元包括一固定单元，所述固定单元将所述调节单元固定于所述基座上；以及微调单元，其设置于所述调节单元上，所述微调单元包括夹紧块及微调螺栓，所述微调螺栓穿设过所述调节单元，并与所述夹紧块螺纹连接。
基本信息
专利标题 ：
一种硅片抛光治具
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021371093.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-07-14
授权号 ：
CN212735527U
授权日 ：
2021-03-19
发明人 ：
郑勇魏永利
申请人 ：
浙江森永光电设备有限公司
申请人地址 ：
浙江省嘉兴市秀洲区加创路1509号中节能产业园17幢
代理机构 ：
嘉兴中创致鸿知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
姚海波
优先权 ：
CN202021371093.6
主分类号 ：
B24B29/02
IPC分类号 ：
B24B29/02 B24B41/06
相关图片
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24B
用于磨削或抛光的机床、装置或工艺（用电蚀入B23H；磨料或有关喷射入B24C；电解浸蚀或电解抛光入C25F3/00；磨具磨损表面的修理或调节；磨削，抛光剂或研磨剂的进给
B24B29/00
有或没有使用固体或液体抛光剂并利用柔软材料或挠性材料制作的工具进行工件表面抛光的机床或装置
B24B29/02
适用于特殊工件的
法律状态
2021-03-19 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN212735527U.PDF
PDF下载
