一种花铁架表面均匀镀膜设备
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摘要

本实用新型公开了一种花铁架表面均匀镀膜设备,包括工作台,工作台的顶端固定设有开口箱体,开口箱体一侧的中部固定设有减速电机,减速电机的输出端穿过开口箱体并固定设有安装盘,两个条形槽的内部均固定设有电动滑块,两个电动滑块的表面均固定连接有直角杆,两个直角杆的一端均与设有的横架,离子料桶的底端固定设有等离子喷枪,开口箱体内腔的一侧开设有移动槽,支撑柱的一端固定设有放置架,本实用新型通过设有的减速电机、安装盘、移动槽、支撑柱和放置架,便于对需要镀膜的花铁架进行转动,使得花铁架表面能够完全的镀一层保护膜,提高花铁架镀膜的均匀性,无需人工转动,操作起来十分方便,实用性强。

基本信息
专利标题 :
一种花铁架表面均匀镀膜设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202021526727.0
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-07-28
授权号 :
CN212800515U
授权日 :
2021-03-26
发明人 :
沈惠峰沈惠菊许浩然刘健陈忠兵费兵
申请人 :
南通华宇印铁制罐有限公司
申请人地址 :
江苏省南通市通州区二甲镇袁南村
代理机构 :
代理人 :
优先权 :
CN202021526727.0
主分类号 :
C23C4/134
IPC分类号 :
C23C4/134  
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IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4/00
熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆(堆焊入B23K,例如B23K5/18,B23K9/04
C23C4/04
以镀覆材料为特征的
C23C4/134
等离子喷涂
法律状态
2021-03-26 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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