一种带清洁装置的真空涂层设备
授权
摘要
本实用新型公开了一种带清洁装置的真空涂层设备，包括密封筒、转动结构和过滤清洁结构；密封筒：其下方为锥形无底结构，密封筒的上方开口通过外弧面后端的合页铰接有桶盖，桶盖的上方出气口设有真空管道，密封筒的内弧壁底端设有横板，密封筒的内弧壁上端设有靶材板，密封筒的弧壁上端贯穿有长板，长板的后端延伸至密封筒的外部并在上表面设有电焊机，电焊机的电焊针头设置于长板的底面前端并与靶材板的前端凹槽位置对应，密封筒的底部开口设有厚管，厚管的底部出水口设有出水管道，密封筒的外弧面右侧设有进水管道，密封筒的外弧面底部均匀设有支撑柱；该带清洁装置的真空涂层设备，待涂层的刀具可持续运动，方便对熔渣进行清理。
基本信息
专利标题 ：
一种带清洁装置的真空涂层设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021656733.8
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-11
授权号 ：
CN212864950U
授权日 ：
2021-04-02
发明人 ：
赵红艳刘胡山徐少宁李吉庆
申请人 ：
博赛纳涂层科技(苏州)有限公司
申请人地址 ：
江苏省苏州市工业园区兴浦路200号3#
代理机构 ：
苏州欣达共创专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
周升铭
优先权 ：
CN202021656733.8
主分类号 ：
C23C14/32
IPC分类号 ：
C23C14/32 C23C14/50
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
C23C14/32
爆炸法；蒸发及随后的气化物电离法
法律状态
2021-04-02 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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