掩模板

授权

摘要

本实用新型公开了一种掩模板，其包括透光基板、吸光膜及掩模保护膜；透光基板的下侧面中间区域为图形区，外围区域为接触区域；图形区及接触区域分别覆盖有相应形状的吸光膜；图形区同接触区域之间的吸光膜断开并构成一防静电环；掩模保护膜为透明薄膜，蒙贴在一个掩模板保护膜框的下侧；掩模板保护膜框不透光；掩模板保护膜框端的形状同防静电环一致；掩模板保护膜框上端的壁厚大于或等于防静电环的线宽度；掩模板保护膜框上端对应于防静电环粘贴在透光基板下侧面，遮挡防静电环。步进‑扫描式光刻机采用该掩模板投影时可以完全消除防静电环的投影对晶圆对应图形区的线宽影响。

基本信息

专利标题：

掩模板

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

暂无

申请号：

CN202021857848.3

公开（公告）日：

暂无

申请日：

2020-08-31

授权号：

CN212965743U

授权日：

2021-04-13

发明人：

周世均王晓龙宋海生

申请人：

上海华力微电子有限公司

申请人地址：

上海市浦东新区高斯路568号

代理机构：

上海浦一知识产权代理有限公司

代理人：

王江富

优先权：

CN202021857848.3

主分类号：

G03F1/54

IPC分类号：

G03F1/54 G03F1/64 G03F1/40 G03F7/20