一种提高投影透镜套刻精度的方法及装置
实质审查的生效
摘要
本申请实施例公开了一种提高透镜套刻精度的方法及装置，该方法包括：获取第一光罩图形，第一光罩图形用于在晶圆表面套刻生成预设图形；确定第一光罩图形中至少两条遮光条的遮光位置以及遮光间距；在至少两条遮光条的遮光间距内引入工艺增强辅助(dummy)图形和光学增强辅助(scattering bar)，生成第二光罩图形，第二光罩图形用于在晶圆表面套刻生成实际图形，以便光源通过投影透镜实现晶圆套刻，其中，dummy图形以及scattering bar用于减少光源对投影透镜的曝光，降低镜头受热。通过引入dummy图形和scattering bar的方式，可以有效减少光束对投影透镜造成的受热效应，提高投影透镜套刻精度。
基本信息
专利标题 ：
一种提高投影透镜套刻精度的方法及装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114326339A
申请号 ：
CN202210033157.9
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2022-01-12
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
独俊红包晓明吴华标叶甜春朱纪军罗军李彬鸿赵杰
申请人 ：
澳芯集成电路技术（广东）有限公司;广东省大湾区集成电路与系统应用研究院
申请人地址 ：
广东省广州市黄埔区香雪大道中85号1601-1607房
代理机构 ：
无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
苗雨
优先权 ：
CN202210033157.9
主分类号 ：
G03F9/00
IPC分类号 ：
G03F9/00 G03F1/54 G03F1/76 G03F1/80
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F9/00
原版、蒙片、片框、照片、图纹表面的对准或定位，例如自动地
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 9/00
申请日 : 20220112
申请日 : 20220112
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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