套刻量测系统矫正方法
实质审查的生效
摘要
一种套刻量测系统矫正方法，包括：将晶圆置于初始位置；获取当前套刻偏差反映在晶圆层面的旋转量；计算N个信号点当前的统计套刻旋转偏差；重复进行沿光轴方向移动晶圆的步骤，并在移动晶圆后，获取当前套刻偏差反映在晶圆层面的旋转量并计算N个信号点当前的统计套刻旋转偏差，直至所述晶圆移动范围达到预定移动范围；获取所述统计套刻旋转偏差与所述晶圆移动位置的关系图表，以得到最优移动位置；沿光轴方向移动晶圆至最优移动位置，完成矫正，最优移动位置为统计套刻旋转偏差为0值时对应的晶圆移动位置。矫正方法有助于消除信号点处于倾斜面上引起的系统量测误差，进而防止误判。
基本信息
专利标题 ：
套刻量测系统矫正方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114428444A
申请号 ：
CN202011185631.7
公开（公告）日 ：
2022-05-03
申请日 ：
2020-10-29
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
甘志锋
申请人 ：
中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区张江路18号
代理机构 ：
北京集佳知识产权代理有限公司
代理人 ：
吴敏
优先权 ：
CN202011185631.7
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G03F9/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-05-20 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20201029
申请日 : 20201029
2022-05-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
