套刻图形、旋转误差校准方法和上片旋转精度测量方法
实质审查的生效
摘要
本发明提供了一种套刻图形、旋转误差校准方法和上片旋转精度测量方法，套刻图形包括第一套刻测量图形和第二套刻测量图形；第一套刻测量图形和第二套刻测量图形中的其中一者包括呈中心对称分布的四组条纹图形，每一条纹图形均包括2n+1条等间隔设置的条纹且关于中间条纹对称；第一套刻测量图形和第二套刻测量图形中的另一者包括呈中心对称分布的四组具有尖端的尖端图形，尖端图形的尖端和与其对应的条纹图形的中间条纹对应设置。本发明通过观察尖端图形的尖端与条纹图形的中间条纹之间的位置即可以快速判断校准值并进行实时校准。
基本信息
专利标题 ：
套刻图形、旋转误差校准方法和上片旋转精度测量方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114488724A
申请号 ：
CN202011254726.X
公开（公告）日 ：
2022-05-13
申请日 ：
2020-11-11
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
朱晓亮王博
申请人 ：
上海微电子装备（集团）股份有限公司
申请人地址 ：
上海市浦东新区张东路1525号
代理机构 ：
上海思捷知识产权代理有限公司
代理人 ：
王宏婧
优先权 ：
CN202011254726.X
主分类号 ：
G03F9/00
IPC分类号 ：
G03F9/00 G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F9/00
原版、蒙片、片框、照片、图纹表面的对准或定位，例如自动地
法律状态
2022-05-31 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 9/00
申请日 : 20201111
申请日 : 20201111
2022-05-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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