校准装置以及校准方法
公开
摘要
提供一种校准装置以及校准方法，即使在摄像装置的设置条件的自由度高的情况下也能够进行校准。校准装置(100)具备：状态推测部(113、114)，检测在第1摄像装置的视场内存在的第2摄像装置，推测第2摄像装置相对于所述第1摄像装置的相对位置和相对姿势，第1摄像装置是输出包含位图图像和距离图像的视场信息的摄像装置；以及变换信息计算部(115、116)，基于相对位置和相对姿势，计算第1摄像装置的坐标系与第2摄像装置的坐标系的变换信息。
基本信息
专利标题 ：
校准装置以及校准方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114615441A
申请号 ：
CN202111454360.5
公开（公告）日 ：
2022-06-10
申请日 ：
2021-11-29
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
三谷佳一田岛和幸山崎和良
申请人 ：
株式会社日立制作所
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
中国贸促会专利商标事务所有限公司
代理人 ：
金光华
优先权 ：
CN202111454360.5
主分类号 ：
H04N5/247
IPC分类号 ：
H04N5/247 G06F16/29
法律状态
2022-06-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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