主动校准装置及其方法
公开
摘要
一种主动校准装置及其方法，用于对待校准模组进行主动校准，其中该待校准模组为小视场模组或大视场模组。该主动校准装置包括一主动校准平台和一可切换标板组件。该主动校准平台包括用于安装该待校准模组的一模组工装。该可切换标板组件包括一平面光源标板和一平行光管标板，并且该平面光源标板和该平行光管标板被可切换地设置于该主动校准平台的上方，其中当该平面光源标板被切换以对应于该主动校准平台的该模组工装时，该主动校准装置处于小视场校准状态，用于对该小视场模组进行主动校准，并且当该平行光管标板被切换以对应于该主动校准平台的该模组工装时，该主动校准装置处于大视场校准状态，用于对该大视场模组有进行主动校准。
基本信息
专利标题 ：
主动校准装置及其方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114594611A
申请号 ：
CN202011412344.5
公开（公告）日 ：
2022-06-07
申请日 ：
2020-12-03
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
单施洁陆旭凯韩华清
申请人 ：
余姚舜宇智能光学技术有限公司
申请人地址 ：
浙江省宁波市余姚市兰江街道世南西路1898号
代理机构 ：
上海领洋专利代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
罗晓飞
优先权 ：
CN202011412344.5
主分类号 ：
G02B27/34
IPC分类号 ：
G02B27/34 G01M11/02
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02B
光学元件、系统或仪器附注
G02B27/00
不能分入G02B 1/00-G02B 26/00,G02B 30/00的其它光学系统或其它光学仪器
G02B27/32
在光学系统内的基准标记和测量度盘
G02B27/34
光照的
法律状态
2022-06-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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