一种多通道高精度套刻误差检测系统及方法
公开
摘要
本发明公开了一种多通道高精度套刻误差检测系统，用于测量被测芯片的套刻误差，包括：多通道光源模块、测量模块、载物台模块、成像模块和计算模块，其中所述被测芯片放置于所述载物台模块上，所述多通道光源模块能够分时投射不同通道的激光经过所述测量模块至所述被测芯片上，在所述被测芯片上反射后再次经过所述测量模块并成像于所述成像模块上，所述计算模块连接所述成像模块以根据所述成像模块上的成像数据计算所述被测芯片的套刻误差。本发明还公开了一种多通道高精度套刻误差检测方法和一种多通道高精度套刻校正方法。本发明能够提高套刻误差的检测精度。
基本信息
专利标题 ：
一种多通道高精度套刻误差检测系统及方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114578657A
申请号 ：
CN202210153172.7
公开（公告）日 ：
2022-06-03
申请日 ：
2022-02-18
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
李星辉李一鸣王晓浩
申请人 ：
清华大学深圳国际研究生院
申请人地址 ：
广东省深圳市南山区西丽街道深圳大学城清华校区A栋二楼
代理机构 ：
深圳新创友知识产权代理有限公司
代理人 ：
方艳平
优先权 ：
CN202210153172.7
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-06-03 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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