一种高精度套刻测量量值溯源方法及散射仪
实质审查的生效
摘要
本发明公开了一种高精度套刻测量量值溯源方法及散射仪，该方法包括如下步骤：S1：流片加工裸硅片得到晶圆样片，切割分离晶圆样片得到套刻精度芯片；S2：用计量型标准散射仪定值溯源套刻精度标准样片，将套刻精度标准样片安装在不同尺寸的载体晶圆上；S3：将多组不同尺寸的套刻精度标准样片经过套刻对准测量设备进行溯源。本发明提出一种光刻套刻精度的高效溯源方法，通过采用单波长稳频激光和高精度测角转台构造标准散射仪，研究制备套刻测量晶圆标准片，实现衍射型套刻对准测量精度向波长和角度的量值溯源。
基本信息
专利标题 ：
一种高精度套刻测量量值溯源方法及散射仪
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114279577A
申请号 ：
CN202111558740.3
公开（公告）日 ：
2022-04-05
申请日 ：
2021-12-20
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
李星辉李一鸣王晓浩
申请人 ：
清华大学深圳国际研究生院
申请人地址 ：
广东省深圳市南山区西丽街道深圳大学城清华校区A栋二楼
代理机构 ：
深圳新创友知识产权代理有限公司
代理人 ：
江耀纯
优先权 ：
CN202111558740.3
主分类号 ：
G01J9/00
IPC分类号 ：
G01J9/00 G01B11/26
IPC结构图谱
G
G部——物理
G01
测量；测试
G01J
红外光、可见光、紫外光的强度、速度、光谱成分，偏振、相位或脉冲特性的测量；比色法；辐射高温测定法
G01J9/00
测量光学相位差；测定相干性的程度；测量光学波长
法律状态
2022-04-22 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G01J 9/00
申请日 : 20211220
申请日 : 20211220
2022-04-05 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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