一种掩膜版及彩膜基板
授权
摘要

本实用新型公开了一种掩膜版及彩膜基板,其中掩膜版包括第一透明衬底基板,所述第一透明衬底基板的一侧面设有透过率为5‑15%的第一光阻层,用于彩膜基板的遮光层,所述第一光阻层上开设有若干个第一通孔形成黑矩阵层,所述第一通孔用于彩膜基板中的彩色色阻的制作,所述黑矩阵层上还开设有第一全透孔;所述黑矩阵层的外表面还设有透过率为15%‑40%的第二光阻层,所述第二光阻层和黑矩阵层上还开设有第二全透孔,所述第二全透孔用于彩膜基板的主柱状隔垫物的制作,所述第一全透孔由于第二光阻层的阻挡作用用于彩膜基板的辅柱状隔垫物的制作,可以同时制作彩膜基板上的主柱状隔垫物、辅柱状隔垫物和遮光层,有效降低了掩膜版的生产成本和减少了一道产品制程成本。

基本信息
专利标题 :
一种掩膜版及彩膜基板
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202022055653.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-09-18
授权号 :
CN212905811U
授权日 :
2021-04-06
发明人 :
吴杰明黎源张峰李岩
申请人 :
信利(仁寿)高端显示科技有限公司
申请人地址 :
四川省眉山市仁寿县文林工业园区
代理机构 :
广州粤高专利商标代理有限公司
代理人 :
刘春风
优先权 :
CN202022055653.3
主分类号 :
G02F1/1335
IPC分类号 :
G02F1/1335  G02F1/1339  G03F1/54  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
G02F1/1335
•••••与液晶单元结构相连的光学装置,例如偏振器或反射器
法律状态
2021-04-06 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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