一种真空吸笔
授权
摘要
本实用新型属于真空吸笔装置技术领域，具体涉及一种真空吸笔，包括笔杆和吸笔头；其中，所述吸笔头的两端分别设有吸附孔(1)。本实用新型提供的真空吸笔，具有两个吸附孔(1)，可吸附在晶圆片有效区之外，且吸附稳固，从而避免了现有技术的真空吸笔会对晶圆片的图形区域造成污染或损伤的缺陷，同时能够提高工作效率。
基本信息
专利标题 ：
一种真空吸笔
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021865726.9
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-08-31
授权号 ：
CN213459691U
授权日 ：
2021-06-15
发明人 ：
陈洲峰王虎
申请人 ：
武汉锐晶激光芯片技术有限公司
申请人地址 ：
湖北省武汉市未来科技城A5北C1栋902室
代理机构 ：
北京众达德权知识产权代理有限公司
代理人 ：
张晓冬
优先权 ：
CN202021865726.9
主分类号 ：
H01L21/683
IPC分类号 ：
H01L21/683
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21/683
用于支承或夹紧的
法律状态
2021-06-15 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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