一种改善抛光片厚度散差的抛光皮
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摘要
本实用新型涉及抛光技术领域，尤其涉及一种改善抛光片厚度散差的抛光皮，其特征在于，包括圆盘状的抛光皮本体，所述抛光皮本体表面均匀开设有若干由圆心指向圆周的主凹槽，且随着所述主凹槽的向外延伸，两相邻所述主凹槽之间的间距逐渐增大，所述抛光皮本体表面还开设有若干半径不等的圆环状的副凹槽，若干所述的副凹槽在所述抛光皮本体上同心设置。本实用新型通过在抛光皮本体表面开设从中心向外边缘发散的主凹槽，来增加抛光皮中心部位主凹槽的分布密度，进而增加添加到抛光皮中心部分的抛光液的量就多，进而对处于抛光皮中心处的抛光片的抛光量就有所增加，从而弥补因抛光皮线速度不同而带来的抛光厚度散差的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种改善抛光片厚度散差的抛光皮
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202021916980.7
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-04
授权号 ：
CN212794605U
授权日 ：
2021-03-26
发明人 ：
韩威风韩巍巍葛文志邓宇
申请人 ：
浙江美迪凯现代光电有限公司
申请人地址 ：
浙江省台州市温岭市产学研工业园科技大道
代理机构 ：
杭州华知专利事务所(普通合伙)
代理人 ：
张德宝
优先权 ：
CN202021916980.7
主分类号 ：
B24D13/14
IPC分类号 ：
B24D13/14
IPC结构图谱
B
B部——作业；运输
B24
磨削；抛光
B24D
磨削、抛光或刃磨用的工具
B24D13/00
具有挠性作用的工作部分的轮，如抛光轮；及其固定件
B24D13/14
用其前面作用的
法律状态
2021-03-26 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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