本实用新型属于气相渗硅技术领域，公开一种气相渗硅用工装。包括反应室，反应室内壁上设置一圈支撑平台，支撑平台上放置有支撑板，支撑板将反应室内腔分为下部熔硅区和上部反应区两部分，反应室的顶部设有反应室顶盖；所述支撑板上均匀设有若干个硅蒸汽通道，所述支撑板顶部避开硅蒸汽通道开设有放置槽或者所述支撑板顶部避开硅蒸汽通道放置有垫块；所述反应室、反应室顶盖、支撑板、垫块的材质均为等静压石墨，所述反应室的内表面、反应室顶盖的内表面、支撑板表面、垫块表面均设置有碳化硅涂层。本实用新型中可以有效缓解高温硅蒸汽对反应室和支撑板的侵蚀，能有效解决工装易开裂、使用寿命短的缺点，渗硅效果好，材料性能一致性稳定。