一种镀膜机阴极结构
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摘要

本实用新型公开了一种镀膜机阴极结构,其安装于镀膜箱的一侧,镀膜箱内用于放置工件,镀膜机阴极结构包括:容置箱,容置箱的一侧与所述镀膜箱连通;靶管,靶管转动内置于所述容置箱;套筒,套筒的外周面开设有一与其内腔连通的缺口;第一驱动机构,可驱动靶管相对容置箱转动;第二驱动机构,可驱动套筒相对靶管转动,阴极棒刚开始通电到达到稳态的过程中,第二驱动机构驱动套筒转动,并使缺口背离容置箱与镀膜箱连通的一侧,当阴极棒放电达到稳态后,第二驱动机构再次驱动所述套筒转动,并使缺口朝向容置箱与镀膜箱连通的一侧,并且第一驱动机构可以驱动靶管持续转动,从而保证靶管的周向各个位置材料均能从缺口释放出来,进一步提高镀膜效果。

基本信息
专利标题 :
一种镀膜机阴极结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202022030180.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-09-16
授权号 :
CN213388866U
授权日 :
2021-06-08
发明人 :
郭爱云朱选敏
申请人 :
武汉科瑞达真空科技有限公司
申请人地址 :
湖北省武汉市东湖高新技术开发区高新大道666号武汉国家生物产业基地项目B、C、D区研发楼B1栋
代理机构 :
武汉蓝宝石专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
方菲
优先权 :
CN202022030180.1
主分类号 :
C23C14/24
IPC分类号 :
C23C14/24  
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学;冶金
C23
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/22
以镀覆工艺为特征的
C23C14/24
真空蒸发
法律状态
2021-06-08 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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