一种多道翻转刻蚀收料设备
授权
摘要

一种多道翻转刻蚀收料设备,解决了现有的硅片刻蚀时,硅片与等离子气体接触效果差,不利于硅片的刻蚀的问题,其包括刻蚀箱、放置槽、铰链和密封门,所述刻蚀箱一端的中部设置有进气口,刻蚀箱另一端的中部设置有排气口,刻蚀箱底端的中部安装有伺服电机,刻蚀箱的内部内腔,内腔靠近一端位置处设置有方形盒,方形盒的一侧均匀设置有若干个排气管,伺服电机的顶端安装有转轴,转轴上套接有套筒,套筒的底端设置有固定盘,套筒的顶端通过固定螺栓安装有可拆卸盘,转轴的底端设置有限位盘,转轴的边缘处均匀设置有若干个限位块,本实用新型结构新颖,构思巧妙,使得等离子气体与硅片表面充分接触刻蚀,刻蚀效果好。

基本信息
专利标题 :
一种多道翻转刻蚀收料设备
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202022116416.3
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-09-23
授权号 :
CN212783389U
授权日 :
2021-03-23
发明人 :
季徐华刘金宗
申请人 :
无锡森顿智能科技有限公司
申请人地址 :
江苏省无锡市城南路212号A8
代理机构 :
无锡华源专利商标事务所(普通合伙)
代理人 :
聂启新
优先权 :
CN202022116416.3
主分类号 :
H01L21/67
IPC分类号 :
H01L21/67  H01J37/32  
相关图片
IPC结构图谱
H
H部——电学
H01
基本电气元件
H01L
半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21/00
专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/67
专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
法律状态
2021-03-23 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN212783389U.PDF
PDF下载
  • 联系电话
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 联系 Q Q
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 关注微信
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 收藏
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332