一种红外窗口增透保护结构
授权
摘要
本实用新型涉及光学薄膜技术领域，具体涉及一种红外窗口增透保护结构，该结构包括增透层、基底和保护层，基底的一侧附着有增透层，另一侧附着有保护层；增透层自基底起依次包括第一锗层、第一硫化锌层、第二锗层和第二硫化锌层；保护层自基底起依次包括锗砷硒层和类金刚石层，本实用新型提供了一种红外窗口增透保护结构，锗砷硒层作为类金刚石层和基底层之间唯一的中间层，一方面增加了窗口的光学透过性，另一方面减小了膜层间的应力，解决了无法在硫族材料上沉积类金刚石膜的问题。
基本信息
专利标题 ：
一种红外窗口增透保护结构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022193358.4
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-09-29
授权号 ：
CN212293729U
授权日 ：
2021-01-05
发明人 ：
张美奇赵培
申请人 ：
昆明奥夫特光电技术有限公司
申请人地址 ：
云南省昆明市市辖区滇中新区大板桥街道云水路1号A2栋416-44号办公室
代理机构 ：
无锡派尔特知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
杨立秋
优先权 ：
CN202022193358.4
主分类号 ：
C23C14/06
IPC分类号 ：
C23C14/06 C23C14/32 C23C16/26 C23C14/18 C23C28/00 G02B1/115 G02B1/14
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/06
以镀层材料为特征的
法律状态
2021-01-05 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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