一种扩散炉的冷却结构
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摘要

一种扩散炉的冷却结构,包括设置在扩散炉内部的内管以及设置在内管外侧的保温层、隔离层和冷却层,所述隔离层设置于保温层与冷却层之间;所述冷却层设置于隔离层外侧;本实用新型设置冷却层,加快扩散炉的冷却,减少生产用时,增加生产效率,同时也能够加快主炉柜内的降温,避免电气设备长时间处于高温状态而损坏,能够尽可能的大面积的进行降温,而且降温的区域分布均匀,本设备能够尽可能的大面积的进行降温,而且降温的区域分布均匀。

基本信息
专利标题 :
一种扩散炉的冷却结构
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
暂无
申请号 :
CN202022315020.1
公开(公告)日 :
暂无
申请日 :
2020-10-17
授权号 :
CN214842455U
授权日 :
2021-11-23
发明人 :
林佳继郭永胜刘群庞爱锁林依婷
申请人 :
深圳市拉普拉斯能源技术有限公司
申请人地址 :
广东省深圳市坪山区坑梓街道吉康路1号
代理机构 :
杭州天昊专利代理事务所(特殊普通合伙)
代理人 :
董世博
优先权 :
CN202022315020.1
主分类号 :
F27B17/00
IPC分类号 :
F27B17/00  F27D9/00  
相关图片
IPC结构图谱
F
F部——机械工程;照明;加热;武器;爆破
F27
炉;窑;烘烤炉;蒸馏炉
F27B
一般馏炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉;开式烧结设备或类似设备
F27B
一般馏炉、窑、烘烤炉或蒸馏炉;开式烧结设备或类似设备
F27B17/00
不包含在F27B 1/00至F27B 15/00中任一组的炉
法律状态
2021-11-23 :
授权
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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