一种用于光阻机的光源挡光机构
授权
摘要
本实用新型公开了一种用于光阻机的光源挡光机构，属于光阻机中挡光技术领域，该挡光机构包括挡光板，挡光板为曲面结构，且挡光板采用弹性材质制成；定义挡光板装配安装机构一端为a点，定义挡光板相对a点的一端为b点，a点与b点之间的距离为H；所述的挡光板内壁上装配有调节机构，调节机构用于作改变a点与b点之间的距离H大小的动作，调节机构的设置改变了挡光板的曲面的曲率半径，实现了调节反射光范围的技术目的，另外挡光板的通过安装机构装配在光阻机中，便于拆卸维护，实用性较好。
基本信息
专利标题 ：
一种用于光阻机的光源挡光机构
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
暂无
申请号 ：
CN202022330315.6
公开（公告）日 ：
暂无
申请日 ：
2020-10-19
授权号 ：
CN213240803U
授权日 ：
2021-05-18
发明人 ：
冯嘉荔
申请人 ：
广州市鸿浩光电半导体有限公司
申请人地址 ：
广东省广州市增城区新塘镇荔新十二路96号9幢103房
代理机构 ：
广州正驰知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
洪安鹏
优先权 ：
CN202022330315.6
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G02B26/08
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2021-05-18 ：
授权
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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